중소 반도체장비 메이커가 섭씨 600도 이하의 저온에서 처리가 가능하고 기존 증착기술보다 최고 100배 정도 뛰어난 고성능 소자제조 증착기술을 국내 처음으로 개발했다. 아펙스(대표 김종학)는 매엽식(웨이퍼를 한장씩 처리하는) 샤워헤드 방식의 래디칼화학증착(RACVD)기술을 개발했다고 3월31일 밝혔다. 래디칼, 양이온, 음이온 등의 에너지로 구성된 플라즈마에서 중성자 성격을 지닌 래디칼 에너지를 선택적으로 활용해 열에너지와 융합하고 반응성을 높여 600도 이하의 낮은 온도에서도 증착이 가능하다는 장점이 있다. 그동안 인텔, 삼성전자 등 세계적인 반도체 메이커와 장비 메이커들이 수년간에 걸쳐 문제해결에 고심해왔던 난관을 국내 벤처기업인이 플라즈마의 래디칼을 이용해 해결했다는 데 큰 의미가 있다. 아펙스는 신기술이 기존의 저압화학증착(LPCVD) 또는 플라즈마화학증착(PECVD) 방식에 비해 증착률(생산성)을 최고 100배까지 향상시킬 수 있고 표면도포성이 0.15미크론(㎛) 환경에서 95% 이상으로 뛰어나다고 밝혔다. 또 고성능 소자기술로 각광받는 원자층막증착(ALD) 기술에 비해서도 시간당 처리능력과 증착막 품질이 높다는 점에서 앞으로 고성능 소자기술 개발의 새로운 판도변화를 가져올 것이라고 전망했다. 기존의 LPCVD와 PECVD의 단점을 보완하면서 장점만을 채택한 획기적인 기술이라는 것이다. 아펙스는 메모리와 비메모리의 모든 반도체 생산공정에 광범위하게 쓰이는 기존의 LPCVD 시장은 2001년 기준 13억달러에 달하고 있으나 RACVD기술이 LPCVD를 대체할 것으로 예상되기 때문에 파급효과가 클 것으로 보고 있다. RACVD(Radical Assisted Chemical Vapor Deposition)는 샤워헤드(Shower head - 가스가 분사되는 상부전극)내에서 플라즈마 래디칼을 이용해 화학적으로 박막을 증착하는 기술이다. 아펙스는 우선 반도체공정 중 실리콘 나이트라이드와 실리콘 옥사이드에 적용한 후 활용범위를 더욱 넓힐 계획이다. (043)260-2000 <Chemical Daily News 2001/04/02> |
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