티타늄 식각액도 내재화 … R&D 성과 국내 최고 수준으로 평가
 

이엔에프테크놀로지(대표 지용석)가 인산용 식각액 국산화에 성공했다.
이엔에프테크놀로지는 300단 이상 초적층 낸드(NAND)에 사용되는 인산용 식각액을 개발해 2026년 상업화를 앞두고 있다. 초적층 낸드에 사용되는 식각액인 만큼 삼성전자와 SK하이닉스에게 공급할 것으로 알려졌다. 현재는 상업화를 위해 품질 테스트를 진행하고 있으며 2026년 정식 공급할 예정이다.

초적층 낸드는 메모리 셀을 수직으로 300층 이상 쌓아 올려 단위면적당 데이터 저장용량을 극대화하고 있다. 주로 데이터센터와 AI(인공지능) 서버와 같은 고용량 스토리지에 사용되며 층수가 높아질수록 고순도 식각액의 중요성이 커지는 구조이다.
인산계 식각액은 기존 불산계 식각액에 비해 고순도화가 요구돼 생산공정이 까다롭다. 다만, 생산공정이 까다로운 만큼 스프레드가 3-4배 높아 수익성이 우수해 고부가제품으로 분류된다.
국내 반도체 생산기업들은 인산계 식각액을 주로 일본과 미국에 의존하고 있으나 이엔에프테크놀로지가 국산화에 성공하며 해외기업에 대한 의존도를 낮출 수 있게 됐다. 
국내 뿐만 아니라 미국에서의 성장 모멘텀도 확보했다. 2027년 삼성전자의 미국 테일러 팹(Fab) 가동이 예정돼 이엔에프테크놀로지 북미법인에게도 호재가 될 것으로 기대된다. 테슬라(Tesla)를 비롯한 빅테크의 수주에 대응하는 파운드리 공정이 활성화되면 현지 소재 수요가 급증하기 때문이다.
이엔에프테크놀로지는 앞서 고난도 소재 국산화 성과를 여러차례 입증한 바 있다. 2023년에는 동우화인켐이 독점하던 반도체용 암모니아수 시장에 진입해 삼성전자에 암모니아수를 공급하기 시작했다. 
2022년에는 특정 막이나 물질을 선택적으로 제거 가능한 고선택비 SPM(Sulfuric Peroxide Mixture) 세정제를 자체 개발했다. 고선택비 SPM 세정제는 배선 손실을 개선함으로써 공정 수율을 높였고 반도체 패키징과 수요기업의 미세 공정에 맞추어 개발했다.
고대역폭 메모리(HBM) 제조의 핵심인 실리콘 관통전극(TSV) 공정에 쓰이는 티타늄(Titanium) 식각액도 국산화에 성공했다. 티타늄 식각액은 티타늄막을 선택적으로 제거해 실리콘 산화막을 비롯한 주변 막의 손상을 최소화시키는 식각액으로 기존에는 일본계 합작기업이 독점했으나 내재화에 성공해 국내 메모리 제조기업들에게 안정적인 공급이 가능해졌다.
2023-2025년 매출과 영업이익이 연달아 오르며 수익성이 개선되고 있다. 2025년 3분기 매출은 연결기준 1721억원으로 전년동기대비 11.1%, 영업이익도 220억원으로 17.7% 늘었다.
2026년 3-4분기에는 인산계 식각액 매출이 반영돼 매출과 영업이익이 더욱 개선될 것으로 예상된다. 국산화에 성공한 암모니아수도 2023년 기준 시장이 1000억원 미만이였지만 반도체 공정이 미세화·고도화되며 수요가 계속 증가하고 있다.
이엔에프테크놀로지의 매출 비중은 반도체 소재가 65%, 디스플레이 소재가 35%를 차지하고 있다. 주력제품군은 반도체 소재 위주의 프로세스 케미컬과 디스플레이 소재 위주의 화인케미컬로 나뉘어져 있다. 프로세스 케미컬군은 △식각액 △시너 △현상액 △박리액 △세정액이 있고,  화인케미컬은 △포토레지스트 소재 △반사방지막 소재 △하드마스크 소재 △LCD(Liquid Crystal Display)·OLED(Organic Light Emitting Diode)용 소재로 구성됐다.
이엔에프테크놀로지는 앞으로 수요기업들의 가동률 회복과 신규공장 완공에 발맞춰 D램과 HBM용 소재 경쟁력을 강화할 방침이다.
이엔에프테크놀로지 관계자는 “현재 인산용 식각액은 수요기업의 테스트 단계에 있어 2026년 긍정적인 소식이 있을 것 같다”며 “인산용 식각액 뿐만 아니라 아직 공개하지 않은 첨단소재도 지속적으로 투자를 진행하는 등 앞으로도 국산화에 총력을 기울이겠다”고 강조했다.