DNA를 이용한 초소형 반도체가 개발됐다.
KAIST는 신소재공학과 김상욱 교수 연구팀이 DNA를 반도체 신소재인 그래핀(Graffin) 위에 배열시키는 기술을 활용해 초소형인 2나노미터급 반도체 회로를 만들 수 있는 원천기술을 개발했다고 2월6일 발표했다.
현재 상용화된 반도체는 20나노미터급으로, 최첨단 반도체 기술로도 10나노미터 이하의 반도체 제작이 불가능한 것으로 알려져 있다.
2나노미터급 반도체가 개발되면 우표 크기의 메모리에 고화질 영화 1만편을 저장할 수 있다.
연구팀은 “2나노미터까지 정교한 미세패턴을 구현할 수 있는 이중 DNA에 그래핀을 흡착시키는 방법으로 초미세 반도체칩을 만들 수 있는 원리를 개발했다”며 “그래핀은 다른 물질과 잘 달라붙지 않는 성질이 있지만 소재를 화학적으로 개질해 다양한 물질이 잘 흡착할 수 있도록 만들었다”고 밝혔다.
김상욱 교수는 “실리콘에 기반한 기존의 반도체 기술이 한계에 달했다”며 “나노반도체나 바이오센서 등 다양한 분야에 원천기술로 활용될 수 있을 것”이라고 기대했다.
연구 결과는 화학분야 학술지인 <앙케반테 케미(Angewandte Chemie)> 1월호 표지논문으로 게재됐다. <저작권자 연합뉴스 - 무단전재ㆍ재배포 금지>