한-중-일, 특허 동시취득 추진
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한국, 중국, 일본 특허청은 같은 내용의 특허를 3개국에서 동시에 취득할 수 있는 제도를 도입키로 합의했다고 니혼 게이자이(日本經濟)신문이 1일 보도했다. 3국은 2002년부터 단계적으로 특허 심사기준 공통화 작업 등을 추진, 최종적으로는 심사결과를 서로 인정할 수 있도록 할 계획이다. 3국 특허 동시취득 제도가 도입되면 자국에서 인정받은 특허가 3개국에서 보호되기 때문에 글로벌 사업 전개를 추진하는 일본기업도 한국, 중국에 신제품과 신기술을 투입하기 쉬워진다. 3국은 특허청장 정기 회의를 신설, 9월 도쿄에서 첫 회의를 가질 예정이다. <Chemical Daily News 2001/06/02> ⓒ 화학경제연구원, 무단 전재·재배포 및 AI 학습 목적의 무단 수집·이용을 금합니다. |
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