반도체용 인산 정제기술 국산화
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반도체 공정용 초고순도 인산 정제기술이 국산화돼 수입대체 효과는 물론 수출의 물꼬까지 트게 됐다. 한국화학연구원(원장 김충섭) 응용화학연구부 화학공정연구센터 결정화공정연구실 김광주 박사팀은 2000년부터 과학기술부 국가지정연구실사업의 일환으로 인산 정제기술 개발 연구를 수행한 결과, 최근 용융 결정화 기술을 이용해 불순물인 Fe, Pb, Mg, Mn, Na, Ni, K 등을 ppb(불순물이 10억분의 1정도 함유상태) 수준으로 정제하는 반도체 공정용 초고순도 인산 정제기술의 국산화에 성공했다. 개발된 공정기술은 분리기술상의 단점인 부가적인 추출용매 사용 및 회수문제, 폐수문제, 과다한 에너지 소모, 여러 가지 화학물질의 사용에 따른 공정상의 위험과 복잡한 조작을 획기적으로 개선한 기술로 용융결정화 조작만으로 공업용 인산을 초고순도로 정제할 수 있는 공정이다. 표, 그래프 : | 습식에칭(Wet Etching)의 과정 | 한국화학연구원 개발기술의 차이점 | 상용 반도체용 인산과의 순도 비교 | <화학저널 2002/1/7> |
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