감광재료, 국내 특허기술 수준급
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삼성·하이닉스·금호 165건 출원 … 파장 248nm 레이저용 집중 세계적인 반도체 생산대국임에도 불구하고 그동안 대부분 수입에 의존해 왔던 감광재료(PhotoResist)가 최근 들어 국내에서도 자체개발이 활발히 이루어지면서 관련특허 출원이 크게 증가하고 있다.감광재료는 빛에 반응해 화학적 변화로 상을 형성하는 고분자 물질로, 실리콘 웨이퍼 표면에 균일하게 입힌 후 위에 마스크(원판)를 놓고 빛을 쪼이면 미세한 회로형상이 마치 사진이 찍히듯이 그대로 옮겨지게 된다. 회로형상을 감광재료에 옮긴 후 현상액으로 처리하면 미세한 회로구조가 만들어지며, 얼마나 미세한 구조가 형성될 수 있는가가 바로 감광재료의 특성을 좌우한다. 특허청에 따르면, 국내 감광재료 관련 특허출원은 연구개발이 처음 시작된 1982년부터 2001년 말까지 총 385건으로, 연평균 출원건수가 1980년대에 5건 미만이던 것이 1990년대 중반에 15건 이상, 1999년 이후에는 60건 내외로 크게 증가하고 있는 추세이다. 표, 그래프 | 국내 감광재료 시장규모 | 감광재료를 이용한 반도체 미세회로 형성 공정 | 감광재료 관련특허 출원인 현황(1982-2001) | 감광재료 관련특허 출원동향 | 감광재료 관련특허 출원내용 | <화학저널 2004/6/21> |
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