CMP슬러리, Cabot 특허분쟁 예고
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W용 슬러리 시장성 크나 국산화 곤란지경 … 반도체는 책임 요구 반도체 Wafer의 평탄화 공정에 사용되는 CMP 슬러리 중 가장 시장성이 확대되고 있는 W(텅스텐)용 CMP 슬러리 시장이 특허문제로 국산화에 장애를 겪고 있다.W용 CMP 슬러리는 Wafer의 도체에 해당하는 Metal 부분의 연마를 위해 사용되는 제품으로 반도체가 다층화됨에 따라 Logic 등에 사용량이 크게 증가하고 있어 다른 Oxide계 슬러리나 STI용 슬러리에 비해 두드러지게 성장하고 있다. 그러나 세계적으로 CMP 슬러리의 60-70% 시장을 장악하고 있는 Cabot이 W용 슬러리의 기술특허를 대부분 보유하고 있어 국내 슬러리 메이커들에게는 기술을 가지고도 양산이 어려운 실정이다. 이에 Oxide 슬러리를 주력 생산하고 있는 제일모직, 동진쎄미켐, 테크노쎄미켐 등은 W용 슬러리 시장진입을 위해 Cabot이 보유한 특허조성을 탈피한 기술 확보에 주력하고 있다. 국내 생산기업 관계자는 “현재 자체 보유하는 기술은 70-80% 가량 Cabot 특허를 탈피했다는 감정서를 확보하고 있다”고 주장했다. 그러나 Cabot 관계자는 “Cabot이 보유한 특허기술을 빠져나갈 출구를 찾기가 쉽지 않을 것”이라고 주장하고 있어 특허공방은 잠잠히 진행 중인 것으로 판단된다. 국산 샘플은 현재 삼성전자나 하이닉스 등 End User들과 적극적인 평가단계에 있는 것으로 알려졌으나 End User들이 특허문제 걸릴 시에는 전액 보상책임을 운운하고 있어 특허문제가 100% 해결되지 않고는 국산 제품 적용에 무리가 따를 것으로 예상된다. 그러나 국내기업 관계자들은 2005년 특허문제가 해결될 것으로 긍정적으로 전망하고 있어 특허공방의 귀추가 주목된다. <주인경 기자> <화학저널 2005/04/29> |
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