정부출연 연구기관과 민간기업이 협력해 전량 일본에서 수입하던 반도체 공정 코팅 소재를 국산화하는데 성공했다.
국가핵융합연구소는 미세분말 상태에서도 뭉치지 않는 용사 코팅 소재 이트륨옥사이드를 국내기업과 함께 최초로 제조했다고 8월29일 발표했다.
이트륨옥사이드는 반도체 공정 장비에 필요한 소재로 일본에서 모두 수입하고 있다.
용사 코팅은 분말 상태의 소재를 반도체부품 표면에 뿌려 입히는 기술로 내열성·내구성을 높이는 과정에서 사용된다.
국내에서 만든 이트륨 옥사이드는 핵융합연의 플라스마 기술을 적용했으며, 분말끼리 서로 밀어내는 반발력이 생겨 응집되지 않고 흐름을 좋게 만들 수 있어 치밀하고 균일한 코팅막을 형성할 수 있다고 핵융합연구소는 설명했다.
25㎛(1㎛는 1000분의 1㎜) 이하 크기에서 고품질의 용사 코팅을 실현할 수 있다.
품질수준은 일본보다 우수하고, 입자 크기나 유동도 측면에서 일본산을 뛰어넘는다고 핵융합연구소는 강조했다.
개발을 주도한 국가핵융합연구소 홍용철 박사는 “플라스마 기술은 반도체 공정 외에도 다양한 소재에 활용할 수 있다”고 주장했다.