일본 카오(Kao)가 계면활성제 기술로 반도체 세정제 분야에서 경쟁력을 강화하고 있다.
반도체는 500개 이상에 달하는 제조공정 공정 가운데 30-40%가 세정공정이며, 특히 미세화가 지속되는 전공정에서 나노 패턴에 손상을 주지 않고 오염물질만 제거하는 초정밀 세정이 요구되고 있다.
카오는 계면활성 제어 및 표면개질, 기능성 분자 설계기술을 보유하고 있으며 반도체 분야에서 전공정과 후공정 모두를 대상으로 세정제를 개발하고 있다.
극미세 구조 내부의 오염 제거와 표면 특성 유지가 모두 가능한 세정제를 요구하는 수요기업의 니즈에 대응하기 위해 연구를 계속하고 있다.