2026년 10월 13일 (화)
반도체, 적층 경쟁이 식각가스 판도 바꿨다!

HARC 한계 극복 … 크라이오 식각 차세대 기술에 주목

최재혁 기자
화학뉴스 2026.08.19

3D 낸드 고단화가 식각공정의 기술 전환을 앞당기고 있다.
채널 홀을 뚫는 고종횡비(HARC) 식각 난도가 높아지면서 플라즈마에 의존하던 방식 대신 저온에서 관통하는 크라이오(Cryogenic) 식각이 차세대 기술로 떠올랐다.


높은 에너지를 가진 이온으로 3D 낸드의 채널 홀을 뚫는 기존 HARC 공정은 종횡비가 높아질수록 식각속도가 떨어지고 탄소계 폴리머가 과도하게 쌓이거나 측벽 형상이


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[게시일 2011년 2월1일]

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