2026년 10월 09일 (금)
미쓰비시케미칼, 콜로이드 실리카 사업화

2028년 10월부터 후쿠오카에서 생산 … 실리콘 웨이퍼 연마용

강윤화 책임기자
화학뉴스 2026.08.20

미쓰비시케미칼(Mitsubishi Chemical)이 최첨단 반도체용 초고순도 콜로이드 실리카(Silica) 사업화에 나섰다.
미쓰비시케미칼은 규슈(Kyushu) 사업소의 후쿠오카(Fukuoka) 지구에 생산설비를 신설해 2028년 10월부터 초고순도 콜로이드 실리카 상업생산을 시작할 예정이다.
콜로이드 실리카는 실리콘 웨이퍼의 연마 슬러리용 원료나 실리콘 웨이퍼 배선층의 CMP(Chemical Mechanical Polishing: 화학적 연마) 슬러리용 원료로 사용되고 있다.
특히, 실리콘 웨이퍼 배선층은 연마 과정에서 표면을 나노 레벨로 평탄화하면서 불순물을 포함하지 않아야 하고 최대한 스크래치를 억제하면서 높은 제거율을 실현하는 것이 요구되고 있다. 이에 따라 연


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[게시일 2011년 2월1일]

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