감광제, 국산화 전망 “밝다”
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21세기 반도체의 핵심 제조기술인 미세가공기술(Lithography)의 기초재료인 감광제(Photoresist)에 대한 국내 반도체 및 관련기업들의 특허 출원이 증가하고 있고, 특히 중소기업의 출원이 증가하고 있다 특허청에 따르면, 국내외기업 및 개인의 감광제 출원은 1989년까지 미미했으나 1990년부터 증가하기 시작해 1990-94년 출원비율은 외국인 출원 75%(3건) 및 내국인 출원 25%(1건)로 외국인 출원이 많았다. 그러나 1995년 이후 국내 반도체산업의 발달과 더불어 반도체 재료에 대한 반도체 관련기업의 관심이 커지면서 삼성전자, 하이닉스전자(현대전자) 및 금호석유화학 등 대기업의 기술개발 참여로 출원이 급격히 증가해 1995- 98년 출원비율은 외국인 대 내국인 출원이 51대49 비율로 거의 동일한 것으로 나타났고, 1999-2001년은 40대60으로 역전됐다. 표, 그래프 : | 감광제 관련 특허 출원현황(1984-2001) | 감광제 관련 특허 출원비교 | 감광제 관련 특허 출원동향 | <화학저널 2002/1/28> |
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