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삼성정밀화학이 정밀화학에서 벗어나 신 성장동력원으로 전자소재 부문을 선정하고 포트폴리오 대변혁을 추구하고 있다. 1964년 8월27일 한국비료로 출발해 요소비료 생산을 시작으로 1990년대 들어 일반화학, 무기화학 등에 집중 투자하면서 사업을 다각화했으며 2000년대 중반부터 초일류 정밀화학기업 실현을 목표로 제2의 도약을 추진하고 있다. 이를 위해 BT파우더(Barium Titanate Powder), 반도체현상액 등 전자재료 사업부를 강화하고 액정고분자, 프리즘필름 등을 신규 사업화했으며, 레이저 프린터용 칼라토너를 공급하는 등 고부가 사업에 역량을 집중시키고 있다. 요소비료에서 수퍼EP에 이르기까지 삼성정밀화학은 1965년 12월 요소비료 공장을 착공해 비료사업을 시작했으나 1970년대에는 탈비료화를 목표로 1973년 10월 멜라민(Melamine) 공장을 준공했고 1980년대부터 사업다각화를 추진했다. 1980년 6월 메틸아민(Methylamine) 및 DMF(Dimethyl Formamide) 공장을 준공했고 1985년 5월 개미산, 1989년 7월에는 DMF 2공장을 건설했다. 1990년대 들어서는 회사명을 삼성정밀화학으로 변경하고 사업구조 고도화를 본격적으로 추진했다. 1991년 8월 메틸아민 2공장을 시작으로 11월 염화메탄(Methane Chloride), 1994년 3월 CA(Chloro-Alkali) 및 메셀로스(Mecellose), 1995년 11월 반도체 현상액 공장을 준공했으며, 1995년 12월 메틸아민과 DMF 3공장을 준공하고 1996년 9월 메셀로스 2공장까지 마무리함으로써 정밀화학기업으로서의 내실을 다졌다. 표, 그래프 | 삼성정밀화학의 매출 전망 | 삼성정밀화학의 화학제품 시장점유율 변화 | 삼성정밀화학의 매출 분석(2008) | 삼성정밀화학의 화학제품 생산능력 | 삼성정밀화학의 화학제품 시장점유율 | <화학저널 2010/1/18> |
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