일본ㆍ미국, EUVL 상업화 눈앞 … LLPㆍDPP 방식 연구개발에 주력 차세대 리소그라피 기술인 EUVL(극자외선노광)은 본격 상업화를 앞두고 광원 개발 경쟁이 심화되고 있다.네덜란드의 ASML이 출시를 앞둔 EUV 노광장치 실용시험기 <NXE3100>에는 미국 Cymer가 개발한 LPP(레이저 생성 플라즈마) 방식의 광원이 채용될 예정이지만 집광점 출력 100와트 이상 등 일정 목표를 달성하기까지는 시간이 소요될 전망으로 일본기업을 포함해 연구개발 노력이 이어지고 있다. EUVL 기술은 2013년 이후 29나노미터 하프피치(Half Pitch) 반도체 회로형성 기술로써 채용될 전망이다. 이에 따라 미국의 Cymer와 일본의 EUVA(기술연구조합ㆍ극자외선노광시스템기술개발기구) 등이 EUVL 광원 개발에 나서고 있다. EUVA는 NEDO(신에너지산업기술종합개발기구)의 지원을 받아 LPP 방식과 DPP(방전 생성 플라즈마) 방식의 2가지 기술개발이 추진되고 있다. LPP는 고출력 이산화탄소 레이저를 용융 주석 조각에 조사해 얻어진 플라즈마로부터 EUV광을 대구경 컬렉터미러로 집광시키는 방식이다. 동작률 20%, 중간집광점(IF) 최고출력 104W로 세계 최고 수준이며 2010년까지 동작률 75% 달성을 목표로 하고 있다. DPP는 회전전극을 주석 용융물에 침투시켜 주석박막으로 전극을 형성하고 트리거레이저를 조사해 플라즈마를 발생시킴으로써 핀치방전으로 EUV광을 얻는 방식으로 고출력화가 요구되고 있으나 집광점에서 400W 이상의 출력이 가능한 것으로 증명돼 내열대책 등에 대한 개발방향이 결정된 것으로 알려졌다. 한편, Cymer는 동작률 80%, 평균출력 72W를 달성했으며 2010년에는 출력 200W 달성을 목표로 하고 있으나 처리속도 및 장기이용 과제가 남아 있는 상황이다. LPP 와 DPP 방식은 각각 일장일단이 있어 어느 방식으로 결정될지 예측하기 어려운 상황으로 연구개발의 추이를 지켜봐야 할 것으로 판단된다. <화학저널 2010/09/01> |
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