NF3(삼불화질소)에 대한 온실가스 추가지정 논의가 진행되고 있지만 국내에서는 대비가 전혀 이루어지지 않고 있는 것으로 나타났다.
NF3는 반도체 및 TFT-LCD(Liquid Crystal Display) 제조과정에서 CVD (화학기상증착) 공정 후 챔버 내부의 잔류물을 제거하기 위해 사용되는 특수가스로, 최근 들어 태양전지의 비정질 실리콘 박막 생산에도 투입되면서 사용량이 증가하고 있다.
다만, NF3는 지구온난화지수(GWP)가 CO2(이산화탄소)의 1만7000배에 달하는 것으로 나타나 문제가 되고 있다.
이에 따라 IPCC(기후변화에 관한 정부간 패널)는 2006년 가이드라인에 NF3를 규제대상에 포함시켰고, UN FCC(기후변화협약)도 2012년 만료되는 교토의정서를 대체할 새 기후협약의 온실가스 명단에 추가 지정하는 방안을 검토하고 있는 것으로 알려졌다.
국립환경과학원 관계자는 "NF3는 온실효과에 대한 우려 때문에 이미 선진국에서는 사용하지 않는 추세"라며 "2015년 온실가스 추가지정을 목표로 국제적인 논의가 진행 중"이라고 밝혔다.
하지만, 세계에서 가장 많은 NF3를 생산하고 있는 한국은 대응이 미미한 상태이다.