반도체용 포토레지스트(Photoresist) 시장 경쟁이 치열해지고 있다.
국내 반도체용 포토레지스트 시장은 3000억원에 달하는 것으로 추정되고 있으며 KrF 51%, ArF Immersion 14%, ArF Dry 9%를 차지하고 있다.
ArF Immersion은 갤런당 90만-100만원 수준으로 KrF 가격의 3배 수준으로 높고 수요도 확대돼 생산량이 증가할 것으로 예상되고 있다. 
 
국내시장도 과점구조 정착 가속화
반도체용 포토레지스트는 G-Line, i-Line, KrF, ArF 등이 있으며 반도체 공정이 미세화되고 있어 짧은 파장의 광원으로 채용이 증가하고 있다.
배선 폭을 45nm까지 축소할 수 있는 ArF Immersion이 주력으로 채용되기 시작했으며, 배선 폭을 18-32nm까지 대폭 축소할 수 있는 EUV(Extreme Ultra Violet) 광원의 채용도 늘어나고 있다.
반도체 공정이 미세화돼 갈수록 노광공정에서 ArF의 채용이 증가하는 추세이며, 2007년부터 DRAM과 Flash 메모리의 생산이 본격적으로 확대되면서 포토레지스트 채용도 매년 약 7% 신장하고 있다.