크리닝가스 대체 COF₂사업화!
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일본 Daikin, 축적데이터ㆍ샘플 제공 개시 … 충전설비 7월 완성 일본의 Daikin Industries는, 반도체 제조공정에서 사용되는 온난화계수(GWP)가 높은 Cleaning Gas 대체용으로 현재 주목받고 있는 COF₂(Carbonyl Fluoride) 사업화에 나설 예정으로, 현재 건설중인 COF₂용 충전설비가 완공되면 상품화에 나설 방침이다.COF₂를 자체소비용으로 생산해 왔던 Daikin은 화학물질관리면에서도 노하우가 있어, 이미 유저측 요청에 맞는 정보를 제공하고 있으며 일부 특정 메이커에 샘플공급도 개시했다. 반도체제조의 주요공정인 Plasma CVD장치(화학적 기상증착법)에서는 반도체의 Cleaning Gas로서 PFC(Perfluorocarbon)과 SF6(Sulfur Hexafluoride) 등이 사용되고 있다. 두 가스 모두 오존층을 파괴하지 않지만 GWP치가 CO₂의 수만 배나 되기 때문에 사용량을 억제해도 온난화대책상 대체가 필요한 상황이다. 이에 따라 RITE(지구환경산업기술연구기구)를 중심으로 반도체업계와 제조장치, 재료가스메이커 등이 협력해 국가 프로젝트로서 대체기술ㆍ재료의 연구개발이 진행돼 왔다. 이 결과, Plasma CVD장치에서 COF₂를 사용한 새로운 시스템을 개발해 반도체 업계의 지구온난화대책에서 유력한 해결책이 될 전망이다. 2003년 3월에는 최종판단에서 독성관리를 포함한 종합평가에 따라 COF₂가 가장 유력한 재료로 주목을 받았다. RITE 보고에 따르면, COF₂는 종전 방식에 비해 온실효과를 약 99% 삭감할 수 있고 세정효과도 손색이 없으며 수용액으로 흡수시켜 쉽게 독소를 제거할 수 있다. 단, 안전사용시스템에 중점을 둔 Closed화 및 검지기 등을 도입할 필요가 있어 대체가스 공급에 초점이 맞춰졌다. Daikin Industries는 자체소비용으로 COF₂를 가진 가스제조 포지션이며, 이번에 RITE 연구에서도 샘플을 공급하는 등 협력하고 있다. PFC나 SF6에 비해 독성이 있기 때문에 안전관리상의 Handling 등이 필요하지만, Daikin Industries는 COF₂에 관한 안전사용시스템도 이미 갖추고 있어 COF₂ 공급에서 배출까지 관여하는 Solution을 제공할 수 있다고 판단해 사업화에 나선 것으로 보인다. 현재 건설중인 충전설비 등이 7월에 완성되면 상품화에 나설 예정이다. <Chemical Journal 2003/06/27> |
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