감광제, DUV Resist로 급속 전환
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I/G-Line Resist 매출감소 … 2003년 DUV 공정률 90% 차지 반도체용 감광제 소비는 기존 I-line 및 G-line Resist가 시장을 거의 독점한 반면, 2001년부터 신기술로 부상한 DUV(Deep Ultra Violet) Resist의 비중이 확대되고 있다.전세계 포토리지스트 시장이 매출액 기준 2003년 9.4%, 2004년 15.6%의 성장이 예상되는 가운데 DUV Resisit는 I/G-line Resist보다 값이 훨씬 비싸나 매출은 증가하고 있는 추세인 반면, I/G-line Resist은 매출이 감소하는 사양기술로 전락하고 있다. 감광제는 PAC(Photoactive Compound)로 융해된 폴리머인데 DUV Resisit용 폴리머로 PHS(Polyhydroxy Styrene)이 사용된다. 최근 나노산업기술연구조합과 포항공대 가속기연구소가 극자외선 노광 빔라인 건설 및 운영 협약을 맺고 앞으로 3년 동안 산업자원부와 한양대로부터 5억7000만원을 투자받아 극자외선 노광기술용 마스크 및 레지스트 개발평가를 위해 빔라인(Beamline)과 노광평가설비(Exposure tool)를 갖추게 된다. 65나노미터 이하 차세대 노광기술을 국내 기술로 개발하고 상용화할 수 있는 길이 열린 셈인데 삼성전자와 동진쎄미켐 그리고 한양대, 서울대, 포항공대 등 5개 대한 컨소시엄은 매년 약 33억원을 투자하는 |
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