울산화학, 반도체용 가스 생산 주력
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반도체용 Etching 가스 개발 … 고부가 리튬이온전지 전해액도 공급 울산화학(대표 지해석)이 기존의 냉매 사업에서 반도체용 특수가스로 체질개선을 도모하고 있다.울산화학은 불소화합물 및 불소계 냉매 가스를 제조해 왔는데 몬트리올 의정서에서 HCFC 등 기존의 냉매 물질이 오존층 파괴물질로 규정되자 이를 대체할 사업으로 반도체용 Etching 가스 개발을 진행해 왔다. 이에 따라 울산화학은 염화불화탄소 관련 사업규모를 축소하는 한편, 반도체 고부가가치제품 개발에 주력해 2004년 말 C2F6, NF3, C3F8 플랜트를 완공하고 판매에 들어갔으며 C4F6, C5F8 등을 개발하고 있다. 또한 리튬2차전지 전해질로 사용되는 LiF3도 개발해 2003년 판매에 들어갔다. 울산화학 관계자는 “반도체용 가스는 적응 Test 기간이 필요하고 품질인증 과정이 까다로운 만큼 2005년 매출이 크게 향상된 것은 아니나 2006-2007년 사이 큰 폭의 매출향상을 기대하고 있다”고 밝혔다. 한편, 울산화학은 일본 Ineos와 함께 CDM 사업을 진행중인데 UN의 등록 절차만을 남겨 두고 있어 2006년부터 본격적으로 배출권 판매에 들어갈 것으로 기대하고 있다. <박지영 기자> <화학저널 2006/01/03> ⓒ 화학경제연구원, 무단 전재·재배포 및 AI 학습 목적의 무단 수집·이용을 금합니다. |
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