미국 Ashland Chemical의 100% 현지투자법인인 Ashland ACT Korea가 2000년10월 Photoresist Stripper와 식각 잔여물 제거제 제조설비 증설을 마무리했다. 이에 따라 Ashland ACT는 포토레지스트 스트립퍼 및 식각 잔여물 제거제의 생산량을 2001년 여름까지 증설분 30%를 포함해 현재보다 50% 확대, 국내 뿐만 아니라 타이완, 싱가폴, 중국 및 말레이지아를 비롯한 아시아 각국의 수요증가에 대처할 수 있게될 전망이다. Ashland ACT는 설비 확장으로 Hydroxylamine이 포함돼 있지 않은 유기성 및 산화성 식각 잔여물을 제거할 수 있는 ACT 690C 포토레지스트 및 식각 잔여물 제거제를 생산할 수 있게 됐다. 또 앞으로는 반도체 공정에서 상온처리 가능한 ACT NE 제품을 생산할 계획인데 ACT NE는 안정적인 공정조건과 알루미늄, 구리 및 저유전체 산화막에 탁월한 효과를 보이고 있다. 현재 ACT NE 제품은 주요 반도체 제조기업들로부터 테스트를 받고 있으며, 저유전체 산화막을 상업화한 2개의 반도체 제조공장에서 채택됐다. Ashland ACT의 전자화학부문 아시아 비즈니스 Director인 Marcello Boldrini는 『Ashland는 아시아 반도체 시장 성장과 장기적인 수요 충족에 기여하고 있고, 아시아 지역의 성공에 기대가 매우 크며, 앞으로도 지속적으로 투자할 것이다』고 강조했다. 한편, Ashland는 타이완에 Wet Process Chemical 합작기업 AUECC를 설립했고, 조만간 아시아 ACT 고객을 지원하는 응용 Lab을 완성할 예정이다. <화학저널 2000/11/27> |
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