반도체 노광장치 기술개발 “활발”
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반도체 메모리가 대용량화됨에 따라 최소 회로선폭의 크기를 결정짓는 반도체 제조용 노광장치 기술에 대한 연구가 국내외에서 활발히 이루어지고 있다. 특허청에 따르면, 한국의 반도체 노광분야 특허 출원은 1980년대 초반 6㎛의 회로선폭기술 이후 비약적인 발전을 거듭해 1990년대 1.0㎛가 개발되면서 출원이 급증했고, 현재는 130㎚를 능가한 90㎚의 회로선폭이 개발되면서 1998-2001년 특허 출원이 증가했다. 주요기술 출원비율은 마스크(레티클)계에 대한 특허출원이 27%로 가장 많으며, 초점/정렬계(20%), 제어계(19%), 광학계(17%), 스테이지계(12%) 순이며, 광원에 대한 출원은 5%를 차지했다. 반도체 노광장치 중 광원은 크게 빛을 이용한 광학식 광원과 전자빔, 이온빔 및 X-선 등을 이용한 비광학식 광원으로 분류된다. 표, 그래프 | 한국의 노광기술 출원동향 | 세계 반도체 설비투자 증가율 전망 | 국제 반도체 기술 로드맵(ITRS) | 노광장치 기술 출원비교(1982-2000) | 광원기술 출원비율(1982-2000) | <화학저널 2003/1/13> |
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