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Oxide 중심에서 탈피 성공할까? 반도체 웨이퍼의 평탄화 공정에 필수적으로 사용되는 CMP (Chemical Mechanical Polishing) Slurry가 반도체 고집적화에 따라 수요가 지속적으로 성장하는 가운데 다양한 기능성 슬러리로의 변화가 활성화되고 있다.DRAM 강국이라는 한국 반도체산업의 특수성을 활용해 2000년경 Oxide계 슬러리를 중심으로 대폭적인 국산화에 성공한 이후 5년이 지난 지금에는 Oxide 시장이 과당경쟁에 치닫게 되면서 채산성이 크게 악화됐다. 이후 슬러리 생산기업들은 Oxide계에서 Metal계 슬러리 개발 및 양산에 집중하고 있어 2005-06년을 기점으로 국내기업들의 슬러리 사업 성패가 어느 정도 판가름날 것으로 예상된다. 표, 그래프 | 세계 Memory 반도체 시장추이 | 세계 CMP 시장규모 변화 | 세계 CMP 슬러리 시장추이 | Oxide계와 Metal계 수요비중 변화 | CMP Slurry 시장점유율 | CMP 슬러리 시장비중(2004) | <화학저널 2005/11/07> |
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