Entrepix의 토탈 서비스 도입 … 일본 TMP와는 공동 연구개발 BASF가 CMP 슬러리(Slurry) 시장공략에 박차를 가하고 있다.BASF는 9월11일 미국 Entrepix와 장기공급 계약을 맺고 Entrepix의 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 장비 및 프로세스 토탈 서비스인 CMP FastForward를 도입해 차세대 CMP 슬러리 개발에 착수할 것으로 알려졌다. BASF는 4월 일본 TMP와 CMP 슬러리에 대한 전략적 제휴를 체결하기도 했는데 양사는 구리(Copper) 및 Barrier CMP 슬러리에 대한 라이센스를 공유하고 연구개발과 글로벌 마케팅을 공동으로 진행하고 있다. 한편, CMP 슬러리는 실리콘(Silicone) Wafer의 평탄화 공정에 필수적인 제품으로 반도체 산업과 함께 시장이 날로 확대되고 있으며 BASF는 자사의 나노기술을 이용한 Colloidal Silica계 CMP 슬러리에 주력할 것으로 파악되고 있다. <화학저널 2006/09/21> |
제목 | 날짜 | 첨부 | 스크랩 |
---|---|---|---|
[반도체소재] CMP슬러리, 반도체용은 한국 투자 | 2022-03-03 | ||
[반도체소재] 반도체, CMP 클리너 고도화… | 2021-12-08 | ||
[반도체소재] SKC, CMP 패드 국산화 속도낸다! | 2021-08-03 | ||
[반도체소재] 쇼와덴코, CMP 슬러리 안산공장… | 2021-01-06 |
제목 | 날짜 | 첨부 | 스크랩 |
---|---|---|---|
[반도체소재] 솔브레인, HBM 따라 CMP “확대” | 2024-04-05 |
수탁사 | 수탁 업무 및 목적 | 보유 및 이용기간 |
---|---|---|
미래 이포스트 | 상품 배송 | 서비스 목적 달성시 또는 관계법령에 따른 보존기한까지 |
LG U+ | 구독 신청에 필요한 신용카드, 현금결제 등의 결제 대행 | |
홈페이지코리아 | 전산시스템 운영 및 유지보수 |
수집하는 개인정보 항목 |
성명, 회사명, 부서, 직위, 전화번호, 핸드폰번호, 팩스, 이메일, 홈페이지주소 자동수집항목 : 서비스 이용기록, 접속 로그, 쿠키, 접속 IP 정보 |
---|---|
개인정보 수집 및 이용목적 |
켐로커스는 수집한 개인정보를 다음의 목적을 위해 활용합니다. (1) 성명, 회사명 - 회원제 서비스 이용에 따른 회원식별, 불량 회원의 부정 이용 방지를 위함 (2) 부서명/직위 : 회원의 서비스 이용에 대한 통계 및 마케팅에 활용 (3) 이메일, 홈페이지 주소, 팩스, 전화번호, 휴대폰번호 - 서비스 이용 후 계약이행에 대한 내용 제공, 결제 진행사항 통보, 영수증 및 청구서 송부, 불만처리 등을 위함 |
개인정보의 보유 및 이용기간 | 개인정보 수집 및 이용목적이 달성된 후 지체없이 파기 |