국내 반도체 진공기술 세계도 인정
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산자부, 국제규격안 2종 국제표준화 … 이온게이지 국산화 앞당길 듯 반도체 및 디스플레이 장비사업에서 핵심기술로 주목받고 있는 국내의 첨단 진공기술이 국제표준으로 등재될 전망이다.진공기술은 반도체 기판에 원하는 물질을 입히고 회로를 새기는 공정에서 오염입자를 제거하는데 필요한 기술로 실리콘 기판의 형상을 그리는데 중요하며 박막기술에도 매우 유용하게 사용되고 있다. 산업자원부 기술표준원은 한국이 제안한 <진공밸브 시험절차 및 이온게이지의 사양>에 대한 국제규격안 2종이 각국의 의견수렴을 거쳐 국제표준화기구인 ISO/TC 112(진공기술분야) 기술위원회의 승인을 받아 국제표준화가 추진된다고 발표했다. 이에 따라 한국이 반도체, 디스플레이분야에서 세계 최고의 생산국이면서도 기초기술이 구축돼 있지 못해 대부분 수입에 의존해왔던 이온게이지 및 진공밸브와 관련해 국내 고유 개발기술의 우수성을 세계적으로 인정받는 계기를 마련한 것으로 평가되고 있다. 한국의 규격안이 최종 국제표준으로 제정되면 진공밸브와 관련한 진공가스 누출시험 기술분야에서 국내 기술이 반영돼 국내기업의 해외시장 진출에 유리하게 작용할 것으로 예상되고 있다. 이온게이지는 현재 국내 생산기업이 없어 미국, 독일, 영국, 프랑스 등에서 전량을 수입하고 있으나 국제표준 등재로 국산화가 조기에 앞당겨질 것으로 기대되고 있다. 한편, 한국은 2007년 7월 10-12일 미국 샌프란시스코에서 개최된 국제표준화 회의에서 플랜지가 큰 치수(50-100mm)의 진공밸브에 대해서도 국제표준 개정안을 제안하는 등 진공기술 국제표준을 선점하기 위해 적극적인 국제표준화 활동을 전개하고 있다. <김 은 기자> <화학저널 2007/08/23> |
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