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구리 슬러리 국산화에 도전한다! 2008년 상반기까지 국내 메모리 반도체 공정에 구리(Copper) 사용의 본격화가 확실시돼 구리 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 슬러리의 동반 사용이 불가피할 전망이다.이에 따라 국내 CMP 슬러리 생산기업들은 100% 수입되고 있는 구리 슬러리의 국산화를 위해 연구개발 및 평가에 매진하며 2008년에서 늦어도 2010년까지 구리 CMP 슬러리를 상업판매하겠다는 목표를 세우고 있다. 구리 CMP 슬러리 국산화로 시장규모 확대 2006년 기준 국내 Oxide CMP 슬러리 생산능력은 약 2만5000톤으로 제일모직 1만톤, 테크노세미켐 7000톤, 동진쎄미켐 6000톤, 한화석유화학 2000톤으로 추정된다. Cabot Microelectronics 및 Hijimei 등을 중심으로 2000톤 가량이 수입되고 있어 국내수요는 약 2만7000톤으로 추산되고 있다. 하지만, 앞으로 구리 CMP 슬러리의 상업생산이 시작되면 국내 슬러리 시장규모가 크게 확대될 것으로 예상된다. 표, 그래프 | CMP 수급현황(2006) | 실리카 가격 변화 | Oxide CMP 슬러리 시장점유율(2006) | <화학저널 2007/10/15> |
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