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정부 주도로 질적 성장에 한계… 나노기술의 발전과 실용화를 위해 나노미터의 정밀도로 원자스케일 구조물을 구현할 수 있는 공정기술 개발이 추진되고 있다.나노 공정기술 개발은 안정성 및 시장성을 고려하면서도 적용분야의 적절한 기준에 따라 추진돼야 하고, 나노스케일에서의 물리적 이해와 탐구를 위한 실험실 수준의 연구를 위해 접근성과 유연성이 보장된 공정메커니즘 개발이 필요한 상태이다. 나노기술을 적용하는 전자소자의 패턴밀도가 계속 증가하고 있어 차세대 공정기술 필요성이 강조되고 있다. 그러나 광학소스와 렌즈의 물리적 한계 때문에 패턴밀도의 확대는 필연적으로 광학 리소그래피(Lithography) 장비의 고가화를 초래하고 있다. 이에 따라 전통적인 광학 프로젝션 리소그래피의 대체기술로 EUV(Extreme-UV), 전자빔(E-Beam), 이온빔(Ion-Beam) 등을 이용한 공정개발이 추진되고 있으나 고가의 장비가 필요해 문제가 되고 있다. 표, 그래프 | 나노 임프린트 기술의 분류 | 나노 임프린트 기술의 제조방법 | 한국·미국·일본의 나노 임프린트 특허 출원건수 비교 | 한국·미국·일본 3국의 나노 임프린트 기술 특허 출원동향 | 나노 임프린트 특허 출원비중 | 나노 임프린트 기술 특허 출원(등록)동향 및 기술 비교 | 나노 임프린트 특허 인용건수 비교 | <화학저널 2008/2/11> |
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