Canon 신규참여 시장규모 2배로 확대 … 선폭 32nm 대응기술 연구 일본의 스캐너 메이저들이 ArF(불화아르곤) 액침기 판매에 박차를 가하고 있다.새로운 ArF 액침기는 플래쉬메모리(Flash Memory)를 비롯해 반도체 프로세스의 미세화에 대응할 수 있어 수요가 확대되고 있다. ArF 액침기는 개구도(NA) 1.30 이상인 광학계제품과 2개의 스테이지, 액침액 회전, 광원기술, 동작정밀도 등으로 차별화가 진행되고 있으나 최근에는 선폭 32nm에도 대응할 수 있는 2회ㆍ2중노광 대응기술에 초점이 맞춰지고 있다. 2008년 세계 액침기 시장은 2007년보다 2배 이상 확대될 전망으로 네덜란드의 ASML과 Nikon, 신규 진입한 Canon 3사의 움직임이 주목되고 있다. 2008년 반도체 시장은 ArF 액침스캐너가 요구되는 선폭 50nm 이하의 양산이 본격화할 전망이다. 일본에서도 액침스캐너 수요가 활발하기 때문에 Matsushita Denki도 선폭 45nm 로직디바이스 생산을 확대하고 있다. 세계 액침스캐너 수요는 2007년의 2배인 100대를 넘어설 것으로 예상된다. 세계 최대 액침기 메이저인 ASML은 아시아를 중심으로 판매를 확대해 2010년에는 매출액이 50억유로로 전체의 65% 이상을 차지할 전망이다. 2007년에는 액침기 35대를 판매했으나 2008년에는 2배인 70대로 확대해 Nikon이 버티고 있는 일본시장에서도 점유율을 30-40%로 끌어올릴 계획이다. Nikon은 2007년 액침기 생산이 3배 증가한 21대에 달했으며 출하대수는 30대를 목표로 하고 있다. 2008년에는 Saitama와 Kumagaya 플랜트의 생산능력을 40대로 확대할 계획이다. Canon은 2007년 11월 <FPA-7000AS7>을 출시하며 액침기 시장에 처음으로 진입한 이후 저수차 NA1.35 카타지오계 렌즈, 편광조명인 액막액침 시스템 등으로 차별화를 노리고 있다. 액막액침 시스템은 실리콘(Silicon) 웨이퍼가 이동하면서 틈새의 수분을 유동시키는 방법으로 수분의 압력변동이 작기 때문에 노광정도에 영향을 주는 진동을 억제할 수 있다. 또 Airflow를 이용하지 않고 기화열 발생을 억제함으로써 웨이퍼 열변동을 감축하는 기능을 가지고 있으며, 액침액의 공급과 배출이 같은 방향이기 때문에 외부에서 오염물이 침투하기 어렵고 해상도 및 수율 향상으로 이어진다. Canon은 2007년 말 ASML의 협력업체인 독일 Carl Zeiss와 스캐너에 관한 특허상호이용계약을 체결했다. 특허문제는 첨단기술이 집적된 렌즈 등 광학분야에서는 매우 민감한 사항으로 시장에 본격 참여하기 전에 상호이용계약을 체결한 것으로 해석된다. Canon은 2사가 과점하고 있는 액침기 시장에 진입한 이후 제품을 출하했으며, 2010년에는 시장점유율 30%를 목표로 하고 있다. <화학저널 2008/04/17> |
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