다우코닝, 전자빔 레지스트 공급
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고해상도 레지스트 사용 마스크 제거한 리소그래피 … 6nm 생산가능 다우코닝이 차세대 직접기록(Direct-Write) 리소그래피 공정기술 개발을 위해 고안된 전자빔(E-Beam) 레지스트를 출시한다.다우코닝의 전자사업부의 실리콘 리소그래피 솔루션 그룹이 개발한 HR-1541 전자빔 레지스트는 기존에 사용해온 광원이 아닌 전자빔을 이용한 패터닝을 가능케 함으로써 6nm 크기의 마스크 없는 리소그래피 기술을 실현했다.
또 개별 배합을 통해 더 얇거나 두꺼운 막에 사용이 가능하며 뛰어난 식각 저항력을 제공하며 선경계(Line-Edge) 해상도를 3.3nm까지 낮추어 표준 수성기반의 현상액으로 가공할 수 도 있는 것으로 알려졌다. 다우코닝의 실리콘 리소그래피 솔루션 부문 Jeff Bremmer 글로벌 마케팅 매니저는 “현재의 리소그래피 기술은 기술·가격 면에서 32나노 노드 이상까지 확대되기 어렵다”며 “다우코닝은 혁신적인 레지스트를 이용해 경제적인 방식으로 가장 높은 해상도의 패턴을 직접 기록할 수 있어 직접회로, 마스크 또는 나노 임프린트 몰드를 만들기 위한 차세대 리소그래피 공정 개발이 가능해졌다”고 강조했다. 일부 대학 및 연구 그룹은 미세 패턴을 직접기록하기 위해 이미 HSQ 기반의 전자빔 레지스트를 사용해오고 있어 HR-1541 전자빔 레지스트가 상용화되면 실리콘 기반 소재의 구매·확보가 한층 용이해질 것으로 기대하고 있다. <고우리 기자> <화학저널 2008/6/26> |
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