세계 반도체 시장규모는 2010년 3000억달러를 돌파했으며 하이브리드 자동차(HEV)나 스마트폰 등의 탑재량이 증가함에 따라 2000년대 들어 가장 높은 성장률을 기록했다.
삼성전자가 기흥에 반도체 16개 라인을 보유한 공장을 완공한 것을 비롯해 반도체 생산기업들이 생산능력 확대에 나서며 재료 시장 역시 동반 확대되고 있다.
세계 반도체 재료 시장은 반도체 매출 증가에 따라 총 435억5000만달러로 전년대비 25% 증가했다.
반도체 세정제는 반도체 소자의 미세화가 진행됨에 따라 수율과 신뢰성 측면에서 파티클과 금속입자 등 불순물 제거의 중요성이 커지면서 수요가 증가하고 있다.
아울러 세정공정이 여러 웨이퍼를 담그는 배치(Batch) 방식에서 한 장의 웨이퍼씩 세정하는 매엽 세정방식으로 전환되고 있어 세정제 수요 급증이 예상되고 있다.
파티클 및 금속불순물 등의 오염은 소자의 성능과 수율을 좌우하는 중요한 요소로 고집적화에 따라 세정공정의 빈도가 늘어나 제조공정의 30% 수준을 차지하고 있다.
반도체 프로세스에 사용되는 세정제는 크게 불산, 황산, 염산, 과산화수소수, 암모니아수 등 벌크케미칼과 벌크케미칼에 물, 유기용제, 계면활성제 등의 첨가제를 혼합한 기능성 세정제로 구분되고 있다.
벌크케미칼은 FEOL(Front-End Of the Line)에, 기능성 세정제는 에칭(Etching) 등 공정이 끝난 후 BEOL(Back-End Of the Line)에 주로 사용되는 것으로 알려졌다.