손해배상 2억7800만달러에 합의 … 반도체 나노공정 기술 협력체제도
화학뉴스 2014.12.22
SK하이닉스(대표 박성욱)는 일본 Toshiba와 차세대 반도체 나노공정 기술 공동개발을 비롯한 전방위 협력체제를 구축한다.
양사가 전방위적 제휴를 추진함에 따라 Toshiba가 SK하이닉스를 상대로 제기한 1조원 상당의 손해배상 소송도 전격 취하했다. 다만, SK하이닉스가 소송금액의 27%에 해당하는 2억7800만달러(약 3050억원)를 Toshiba에게 지급하며 소송 취하에 합의한 것으로 알려졌다. Toshiba는 일본 검찰이 SK하이닉스 전 직원을 부정경쟁방지법 위반혐의로 기소하자 SK하이닉스가 자사의 정보를 활용했다며 2014년 3월 소송을 제기한 바 있다. 양사는 12월22일 각각 이사회를 열어 기술협력과 소송 취하 등의 안건을 모두 승인했다. 공동개발에 나서는 나노임프린트 리소그래피(NIL: Nano Imprint Lithography) 기술은 반도체 메모리 공정이 더욱 미세화되는 가운데 미세패턴을 구현하는데 적합한 차세대 공정 기술로 알려지고 있다. 막대한 투자비용이 드는 기존 공정기술과 비교해 경제적 양산이 가능한 것으로 평가된다. SK하이닉스와 Toshiba는 NIL 기술 개발의 성공 가능성을 높이는 동시에 기술 상용화를 통해 메모리제품의 원가 경쟁력을 향상시킬 것으로 기대하고 있다. SK하이닉스 관계자는 “Toshiba와의 전방위적인 협력체제를 통해 기술 경쟁력을 강화하고 잠재적인 경영 불확실성을 해소하게 됐다”고 말했다. 반도체 관계자는 “글로벌 시장에서 반도체 미세공정 기술 진화속도 가속화 등 사업 환경이 급변하는 가운데 양사가 소모적인 분쟁에 매달리기보다는 협력을 통해 기술 경쟁력을 확보하는 것이 유리하다는 판단을 내린 것”이라고 말했다. <화학저널 2014/12/22> |
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