삼성전자, ArF용 감광제 상용화 성공
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삼성전자는 0.09미크론(1/100만m) 이하의 초미세 회로를 형성할 수 있는 아르곤 플로라이드(ArF)용 감광제를 국내 최초로 상용화하는데 성공, 기가급 반도체 양산을 위한 원천기술을 보유하게 됐다고 2001년 1월30일 밝혔다.감광제(Photoresist)는 반도체 제조공정상 빛의 반응에 의해 설계된 회로를 웨이퍼 위에 형성할 때 사용하는 고분자 재료이다.삼성전자는 감광제 개발과 관련된 핵심기술을 미국, 일본, 타이완 등 9개국에 특허출원했고, 최근 감광제 전문기업인 미국 Shply와 기술계약을 체결, 상당한 로열티 수입을 거둘 수 있을 것으로 기대하고 있다.삼성전자는 ArF 감광제를 상용화함에 따라 2002년 형성될 것으로 보이는 기가급 시장에서 주도권을 확보하는 것은 물론 64기가 D램 관련제품 양산도 가능할 것으로 보고 있다. <화학저널 2001/2/19·26> |
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