대기압에서 안정적으로 형성된 고효율 저온 플라즈마를 이용해 기존의 습식 세정공정을 획기적으로 개선시킬 수 있는 차세대 플라즈마 건식 세정시스템이 개발됐다. 과학기술부에 따르면, 고등기술연구원 연구조합(이근호 수석연구원)이 개발한 세정시스템으로 월등한 세정효과, 처리시간 단축, 공정의 단순화 및 연속공정을 통한 생산성 증가 등 우수한 경쟁력을 갖춘 장치로 향후 디스플레이 산업 뿐만 아니라 반도체, 폴리머 등에 새로운 부가가치를 제시할 수 있는 신기술로 평가되고 있다. 건식 세정시스템은 점차 대형화돼가는 PDP, TFT 등 평판디스플레이 패널의 세정공정에 필수적인 고효율 세정공정에 혁신적인 활용이 가능하며 반도체공정의 Photo Resister 고속 제거공정기술, 플래스틱/폴리머 표면에 스크레치 방지, 김서림 방지 등 다양한 기능성 특성을 부여할 수 있는 표면개질 공정기술로 활용이 가능하다. 저온(상온-150℃)플라즈마 기술은 수십년간 초경코팅, 기능성코팅 공정에 유용하게 적용한 공정온도 800-1200℃의 CVD(Chemical Vapor Deposition) 기술을, 500-600℃ 공정온도로 낮출 수 있게 됐다. 상압(760Torr) 플라즈마 기술은 고비용이 소요되는 진공시스템을 이용하지 않고 상압(-760Torr)에서 안정되고 효율적으로 활용할 수 있는 플라즈마 방전 (Discharge)기술이다. 과기부는 건식 세정시스템 개발에 따라 저효율의 습식 세정공정에 의존해오던 기술에서 탈피해 보다 우수한 세정효과, 공정비용의 절감 및 생산성 증대가 가능함으로써 디스플레이, 반도체, 폴리머 등의 품질 및 가격경쟁력 개선에 크게 기여할 수 있을 것으로 기대하고 있다. 미국 MIT공과대학 서남표 교수도 건식 세정시스템 연구와 관련된 공정 및 시스템 기술은 향후 디스플레이산업 등에 매우 획기적으로 기여할 수 있을 것이며 미국, 일본의 선진기술에 비해서도 충분한 경쟁력을 갖춘 기술이라고 평가했다. 한편, 이근호 박사는 건식 세정시스템 연구결과로 국내특허 12건을 출원했으며 현재 미국, 일본 특허 출원을 준비중이다. T)031-330-71520 그래프,도표:<저온/상압 플라즈마 표면처리기술 연구비 소요현황> <Chemical Daily News 2001/10/04> |
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