한국표준과학연구원의 정광화 박사팀이 [반도체 제조 플라즈마 공정에서 나노크기의 오염입자를 측정하는 기술]을 세계 최초로 개발했다. 개발기술은 레이저 백열법(Laser-Induced Incandescence)을 이용한 것으로, 진공중의 입자가 높은 에너지의 레이저광과 충돌하여 가열되면 곧 복사선을 내게 되는데 이 복사선의 세기로부터 오염입자의 농도를, 복사선의 상승 및 소멸시간으로부터 입자의 크기를 측정하는 첨단기술이다. 신 측정기술은 또 반도체 제조공정인 플라즈마 화학증착 공정이나 식각공정에서의 오염입자의 크기를 정량적으로 측정할 수 있게 함으로써 공정개선 뿐만 아니라 차세대 반도체 공정 및 나노소자 제작공정에서도 사용될 수 있는 핵심기술이다. 측정기술 개발은 과학기술부가 특정연구개발사업의 일환으로 추진중인 진공기술기반구축사업으로 수행되고 있으며, 1단계인 1999년부터 2003년까지 4년간 정부출연금 100억원의 예산으로 72항목의 진공특성 종합평가 장치들을 구축하는 사업이다. 현재 28개 항목의 특성을 평가할 수 있는 장비가 확보돼 국내의 진공부품·소재의 평가와 인증에 활용하고 있으며, 진공부품의 국산화와 해외시장 개척에 큰 도움이 되고 있다. 진공기술기반구축사업 평가장치 상시 이용기업의 지원내용 2단계에서는 미래유망 신기술개발에 대비한 극청정 진공기술 평가장비를 구축할 예정이다. 아울러 진공기술 기반구축으로 연간 약 300건의 외부평가 이용자의 수요를 충족하고 있으며, 진공기술교육, 산학연교류회, 기술상담 및 자문, 산학연 콘서시엄을 통한 기술이전 및 기술데이터 제공 등을 지원하고 있다. 2001년에는 자체 홈페이지(http://www.vacuum.or.kr)를 개설·운영해 약 13만명의 방문자 수를 기록하는 등 진공기술의 확산을 꾀하고 있다. 표, 그래프: | 진공기술기반구축사업 평가장치 상시 이용기업의 지원내용 | <Chemical Daily News 2002/05/02> |
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