반도체 제조 프로세스 대폭 개선
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일본이 반도체 생산에 따른 환경문제를 해결하기 위해 새 세정 시스템을 개발하고 있다. 일본의 지구환경산업기술연구기구(RITE)는 LSI 제조용 Plasma CVD 공조에 대한 클리닝가스로서 Fluorocarbonyl(COF2) 및 불소가스(F2)를 이용한 새로운 시스템을 개발할 계획이다. Perchlorocarbon(PFC), 6-Fluoro Sulfide (SF6)와 동등하거나 또는 그 이상의 크리닝 효과를 나타내고, 온실가스의 탄산가스 환산 배출량을 100분의 1 이하로 대폭 감축할 수 있는 것이 특징으로 경제성도 우수한 것으로 알려졌다. 표, 그래프 | 기존가스와 개발가스의 비교 | <화학저널 2003/1/20> |
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