Plasma 에칭장비 특허 외국손에!
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특허청, 2003년 특허 출원비중 역전 … 2002년에는 매국인이 압도 반도체 제조의 핵심장비인 Plasma 에칭장비 분야의 특허 출원이 2002년 90건에서 2003년 무려 77% 늘어난 159건에 달했으나 외국인 출원이 주류를 이루어 우려되고 있다.반도체 에칭(Etching-식각) 기술은 반도체 제조공정에서 웨이퍼 또는 웨이퍼 위에 증착된 박막의 일부분을 선택적으로 제거함으로써 원하는 형태의 초미세 구조물을 형성하는데 사용되는 기술이다. 특허청에 따르면, 국내 전체 특허출원이 2002년 10만6000건에서 2003년 11만9000건으로 11.8% 증가한 것과 대조적으로 반도체 플라즈마 에칭 장비 분야의 특허 출원이 폭발적인 증가추세를 보이고 있으나 외국인이 출월을 주도하고 있다. 반도체 플라즈마 에칭장비의 2003년 특허 출원증가율은 내국인이 9% 증가한 반면 외국인은 286% 급증했고, 점유율도 2002년에는 내국인이 76%를 차지했으나 2003년에는 외국인이 53%로 역전당한 것으로 나타났다. 과거 반도체 장비는 거의 전량 수입에 의존했으나 최근에는 활발한 연구개발로 반도체 장비의 국내공급 비율이 23% 수준에 달하고 있어 외국기업의 견제가 본격화되고 있는 것으로 해석된다. 한국반도체산업협회에 따르면, 2004년 국내 주요 반도체 소자기업(5사)의 장비 구매계획은 2003년 37억달러에 비해 약 30% 증가한 48억달러에 달할 것으로 추정되고 있으며, 세계 반도체 장비 시장의 약 16%를 차지하고 있다. 국내 반도체 에칭장비 공급기업은 주성엔지니어링, 아이피에스, 한국디엔에스, 피에스케이 등이 있다.
플라즈마 에칭 장비는 국산화가 빠르게 진행되고 있고 앞으로 수출에도 크게 기여할 것으로 예상되나, 특허분쟁이 발생할 가능성이 높아지고 있어 경쟁력 있는 특허를 확보하는 등 관련기업들의 적극적인 대응책 마련이 시급한 것으로 지적된다. 표, 그래프: | 반도체 플라즈마 에칭장비 특허 출원동향 | 국내 전체 특허 출원동향 | <화학저널 2004/12/28> |
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