PVD 방식으로 상용화 가능성 높여 … 경제적 효과 1조원 이상 기대
화학뉴스 2012.08.30
분자 크기의 입자를 선택적으로 분리할 수 있는 나노분리막(Nanosieve)을 저비용 증착방식으로 만드는 기술이 개발됐다.교육과학기술부에 따르면, 한국과학기술원(KAIST) 전자공학과 윤준보 교수와 한국전자통신연구원(ETRI) 이대식 박사 등은 재료ㆍ응용분야 권위지 Advanced Materials 최신호에 관련내용을 담은 표지논문을 게재했다. 논문 저자들은 전자산업에서 흔히 쓰이는 물리적 기상증착(PVD: Physical Vapor Deposition)을 통해 형성된 박막(薄膜)의 원주상 구조(Columnar Structure)를 분리막에 활용할 수 있을 것이라는데 착안했다. ![]() PVD를 통해 형성된 박막에는 원기둥들이 좁은 간격으로 빽빽하게 들어찬 듯한 모양으로 물질증착이 이루어지는데, 증착을 이용하면 높은 선택비와 빠른 투과속도를 지닌 분리막을 만들 수 있다고 기대한 것이다. 나노 분리막의 기존 제조방식은 수 나노미터(nmㆍ10억분의1미터) 수준의 구멍을 만들기 위해 복잡한 고비용의 공정을 거쳤지만, 해당연구는 반도체 공정 등에 널리 쓰여 매우 손쉽게 이용할 수 있는 공정을 사용해 넓은 면적의 분리막을 저렴하게 제작해 상용화 가능성을 높였다. 금속 뿐만 아니라 산화물에도 적용할 수 있고 1-10나노미터의 구멍 크기도 손쉽게 조절할 수 있는 것도 기술의 장점이라고 논문 저자들은 강조했다. 미세입자를 자유자재로 다루도록 해주는 나노분리막 기술은 의료, 환경, 에너지, 식품 등 다양한 분야에서 고부가가치 기술로 각광받고 있으며 글로벌 분리막 시장은 2010년 14조원에서 2016년 37조원으로 성장할 것으로 전망되고 있다. 윤준보 교수는 “국내 분리막 시장은 9000억원대로 추정되는데 대부분 수입에 의존하기 때문에 개발로 1조원 이상의 경제적 효과가 기대된다”며 “세계 선진기업에서 주목하는 분리막 원천 제조기술을 확보했다는 점에서 의미가 크다”고 말했다. 연구팀은 연구를 통해 개발한 분리막 소재와 제작기술의 특허 출원을 국내와 미국에서 완료했다. <화학저널 2012/08/30> |
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