DuPont, C2F6 50만파운드 증설
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DuPont Fluoroproducts는 세계수요 신장에 따라 2001년 1/4분기에 미국 뉴저지주 Chamber Works 소재 Zyron 116 Chemical Vapor Deposition(CVD) Chamber Cleaning Gas 생산능력을 50만파운드 증설할 예정이다. Zyron 116은 Hexafluoroethane(C2F6)의 상품명이다. DuPont은 2001년말까지 네덜란드 Dordrecht 소재 Octafluorocyclobutane (C4F8)인 Zyron 8020 플랜트 생산능력도 50만파운드 증설할 계획이다. 반도체산업 성장에 따라 고품질의 CVD Chamber Cleaning Gas 수요가 증가하고 있기 때문이다. DuPont은 1999년9월에도 Zyron 116 생산능력을 50만파운드 증설한 바 있다. DuPont Fluoroproducts는 2000년 매출이 20억달러에 달했다. CVD 가스 시장에서 Zyron의 경쟁제품으로는 Nitrogen Trifluoride (NF3)가 있는데, 세계리더인 BOC Edwards를 비롯 Air Products & Chemicals 등이 생산하고 있다. Air Products는 최근 펜실베니아주 Hometown 소재 NF3 플랜트 생산능력을 135만파운드로 증설했다. NF3 및 Zyron은 PFC(Perfluorocarbon) 배출이 적다. <CMR 2001/03/19> <화학저널 2001/5/7> |
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