삼성전자가 반도체 설비투자 관련 지출 총액으로 글로벌 1위를 차지한 것으로 알려졌다.
TrendForce는 삼성전자가 2016년 반도체 사업에 115억달러의 캐펙스(CAPEX)를 투입할 예정이라고 2월10일 발표했다.
캐펙스는 라인 증설과 설비투자에 투입되는 총비용을 가리키며 삼성전자는 2015년 135억달러를 투입했으나 2016년에는 15% 정도 줄일 계획인 것으로 알려졌다.
반면, 인텔(Intel)은 전년대비 30% 이상 확대한 95억달러를 설비투자로 활용한다.
인텔은 중국 Dalian의 IC(집적회로) 공장을 낸드플래시 공장으로 바꾸는데 25억달러를 사용할 예정이며 CPU(중앙처리장치) 시장에서 지배력을 놓치지 않기 위해 연구개발(R&D)에도 막대한 재원을 투입하고 있다.
타이완의 TSMC도 캐펙스를 2015년 81억2030만달러에서 95억달러로 17% 가량 확대했다.
TSMC는 10나노미터 공정에 상당한 금액을 활용하고 중국 Nanjing의 12인치 웨이퍼 공장에도 30억달러를 투입할 계획이다.
TrendForce는 “삼성전자는 인텔과 TSMC와 반대로 설비투자 규모를 줄이고 있지만 여전히 공격적으로 반도체 사업에 투자를 하고 있다”면서 “사업의 양대 축인 메모리와 시스템LSI 가운데 시스템LSI에도 35억달러를 투입하는 등 투자를 늘리고 있다”고 강조했다. (K)