화학뉴스

램테크놀러지(대표 길준잉)가 식각액 공장을 재가동할 계획이다.
램테크놀러지는 반도체용 산화 및 질화막 식각액 2만톤 공장을 가동하고 있으나 2016년 6월 불산 누출사고로 가동이 중단됨에 따라 가동률이 27%에 불과한 것으로 파악되고 있다.
작업중지 명령은 2016년 7월 해제돼 No.1 및 No.3 라인은 곧바로 가동을 재개했으나 일부설비는 보수 작업이 필요해 2017년 하반기부터 재가동할 예정이다.
금강유역환경처에 따르면, 램테크놀러지는 금산공장의 배관 파열판이 터져 불산 55% 용액이 100-500kg 누출된 것으로 파악되고 있다.
다만, 램테크놀러지는 국내 식각액 시장을 솔브레인, ENF테크놀로지가 장악하고 있어 내수비중이 13%에 불과함에 따라 중국, 타이완 등으로 수출을 확대할 계획이다.
반도체용 식각액은 삼성전자 및 SK하이닉스가 본격적으로 3D 낸드(Nand) 공정을 확대해 수요가 증가함에 따라 솔브레인과 ENF테크놀로지의 공급량이 크게 늘어난 것으로 파악되고 있다.
솔브레인은 공주 소재 식각액 공장을 증설하고 있으며, ENF테크놀로지는 삼성전자에게 영업력을 확대하고 있다. <허웅 기자>