화학뉴스

TFT(Thin Film Transistor)는 Oxide 채용을 확대할 것으로 예상된다.
2017년 9월14일 화학경제연구원(원장 박종우)이 개최한 「전자소재 교육-TFT 및 OLED 소재와 기술」에서 연세대학교 김현재 교수는 「TFT 소재 연구 및 개발 방향」 발표를 통해 “디스플레이에 OLED(Organic Light Emitting Diode) 채용이 확대되며 TFT 소재가 a-Si에서 Oxide로 변화할 것”이라고 주장했다.
TFT는 LCD(Liquid Crystal Display), OLED 등에서 주로 스위치로 사용하는 소재로 a-Si, LTPS, Oxide 등이 사용되고 있다.
김현재 교수는 “a-Si는 물성이 좋지 않으나 가격이 저렴하다는 장점이 존재해 여전히 사용량이 꾸준하다”며 “하지만, OLED에는 채용이 불가능해 앞으로 LTPS와 Oxide로 대체될 것으로 예상된다”고 주장했다.
특히, Oxide 채용이 확대될 것으로 예상된다.
김현재 교수는 “LTPS는 CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor) 구현으로 소비전력을 낮출 수 있고 작은 트랜지스터(Transistor)가 장점이지만 현재 사이즈가 6.5세대(1500mm×1850mm)로 제한돼 TV에는 채용이 어렵다”며 “대형 OLED에는 Oxide 채용이 불가피하다”라고 설명했다.
이어 “스마트폰용 디스플레이는 Bezel을 없애는 것, 사용전력을 낮추는 것이 관건”이라며 “2가지 부분에서 Oxide가 가장 적합한 TFT 소재로 판단된다”고 강조했다.
LTPS는 Oxide 대비 단점을 극복하기 위해 CMOS 구현, 절전 기술, 광 셔터(Light-Shutter) 등이 활발하게 연구되고 있으며 삼성, LG에서 1-2년 안에 CMOS 구현이 가능할 것으로 예상된다. <임슬기 기자>