화학뉴스

Maruzen Petrochemical이 차세대 반도체 기술에 대응 가능한 소재를 시장에 투입할 계획이다.
Maruzen Petrochemical은 포토레지스트용 폴리머를 종합적으로 공급하고 있으며 노광광선이 248나노미터인 KrF(불화클립톤), 193나노미터인 ArF(불화아르곤) 용도를 중심으로 높은 시장점유율을 유지하고 있다.
반도체 시장에서는 회로선폭이 7나노미터 수준인 차세대제품의 양산이 이르면 2018년부터 본격화될 것으로 예상된다.
이에 따라 Maruzen Petrochemical은 포토레지스트용 폴리머와 포토레지스트‧기판 사이에 도포해 회로 패턴의 정밀도를 높이는 반사방지막용 폴리머를 통해 반도체 세밀화를 저해하는 불순물 혼입을 고도로 제어할 수 있는 생산 및 분석기술을 정립했다.
주력제품인 포토레지스트용 폴리머 가운데 일부는 7나노미터제품용으로 채용이 시작된 상태이며 새로운 노광기술인 EUV(극자외선)용 폴리머도 시장 형성이 본격화되고 있어 2019년 양산체제를 갖출 예정이다.
5나노미터용, 3나노미터용 EUV 폴리머 개발하고 있으며 기타 반도체 주변소재 사업도 강화하고 있다.
반도체 기판의 재배선층을 만드는 원막 레지스트용 폴리머, 다층배선용 층간 절연막용 폴리머 등은 반도체의 다층화를 타고 수요가 신장할 것으로 예상됨에 따라 수요처 확대를 위한 기술 개발과 샘플 출하를 추진하고 있다.
모두 Chiba 소재 파일럿 설비에서 생산하고 있으며 시장 상황에 맞추어 양산체제로 확대할 방침이다.
Maruzen Petrochemical은 에폭시수지(Epoxy Resin) 경화제, 금속 표면처리제 등에 사용하는 폴리머인 Poly(Para-vinylphenol) 기술을 바탕으로 KrF용 폴리머 사업에 진출했으며 ArF용 폴리머로도 영역을 확대했다.
세계적으로 양제품을 모두 생산할 수 있는 유일한 생산기업이라는 강점을 활용해 포토레지스트용 폴리머 분야에서 영향력을 확대하고 있다.
또 KrF용 폴리머 등에 사용하는 PHS(VP 코폴리머)의 새로운 용도 개척도 추진하고 있다.
Maruzen Petrochemical의 반도체소재 사업은 반도체 시장의 확대, 배선의 세밀화 및 다층화 등으로 최근 수년 동안 연평균 15%대 성장을 지속하고 있다.
고가동률이 이어지고 있는 KrF용 폴리머와 반사방지막용 폴리머는 공정의 디보틀넥킹을 통해 생산능력을 확대하는 방안을 검토하고 있다.
차세대 기술에 대한 대응과 용도 개척도 가속화시켜 2019년에는 매출을 2015년에 비해 2배 늘리겠다는 목표를 세우고 있다. (K)