일본이 반도체 소재 투자를 확대한다.
최근 일본 정부가 반도체산업 부활을 도모하는 가운데 신에츠케미칼(Shin-Etsu Chemical)이 56년만에 일본에 생산기지를 신규 건설하고 반도체 제조용 포토레지스트(감광재) 소재를 생산하기로 해 주목된다.
니혼게이자이신문에 따르면, 신에츠케미칼은 군마현(Gunma) 이세사키시(Isesaki)에서 약 15만평방미터 용지를 취득했으며 약 830억엔(약 7400억원)을 투자해 2026년 완공을 목표로 신규 공장을 건설할 예정이다.
신에츠케미칼이 일본에 생산설비를 신규 건설하는 것은 1970년 이바라키현(Ibaraki) 가시마(Kashima) 공장 이후 처음으로 알려졌다.
포토레지스트는 반도체 웨이퍼에 회로를 그리는 노광공정에 사용되는 소재이며 신에츠케미칼은 글로벌 시장점유율이 약 20%로 파악된다.
기존 생산기지는 일본 니가타현(Niigata)과 타이완에 있으며 군마 신규 공장에서는 한국, 미국에 수출하기 위한 물량을 생산하고 연구개발(R&D)도 진행할 방침이다.
이밖에 닛케이신문 등에 따르면, 미쓰이케미칼(MCI: Mitsui Chemicals)도 반도체 회로 원판 보호용 페리클을 생산하는 야마구치현(Yamaguchu) 공장에 50억-90억엔을 투자해 차세대제품을 양산할 계획인 것으로 알려졌다. (강)