화학뉴스

후지필름(Fujifilm)이 EUV(극자외선) 레지스트와 현상액 생산능력 확대를 검토하고 있다.
후지필름은 최근 반도체 프로세스용 네거티브 EUV 레지스트와 EUV 현상액 공급을 시작했고, 동시에 EUV 레지스트와 현상액을 생산하는 한국 평택공장과 일본 시즈오카(Shizuoka) 공장의 설비를 확대하고 테스트 체제도 확충하기로 결정했다. 신규 설비 가동은 2025년 10월로 예상된다.
후지필름은 미세 패터닝용 EUV 레지스트와 현상액을 세트 공급을 시작했으며 2026년 레지스트와 현상액 포함 EUV 소재 전체 매출 100억엔 달성을 위해 생산능력을 확대할 계획이다.
후지필름은 네거티브 레지스트 현상 공정인 NTI(Negative Tone Imaging) 프로세스를 세계 최초로 개발했으며 NTI 프로세스용 현상액 시장점유율 95%를 장악하고 있다. 현재 NIT 프로세스는 불화아르곤(ArF) 노광용으로 사용되고 있다.
후지필름은 EUV용 NTI 프로세스에 대응하는 EUV 레지스트 및 현상액을 개발해 세트로 공급하고 있다.
EUV 레지스트는 광산발생제(PAG)와 퀜처(Quencher)를 균일하게 분산시키기 때문에 레지스트의 반응제어 기능을 지닌 광분산성 연속형 광산발생제(PCD)를 도입했다.
레지스트 막 내부의 산 농도를 균일하게 유지함으로써 기존 화학증폭형 레지스트(CAR)의 환계였던 회로 패턴의 편차를 약 17% 개선한 것으로 알려졌다. 
후지필름은 수요 증가를 기대하고 평택과 시즈오카 사업장을 증설할 계획이다.
시즈오카 공장에는 EUV 레지스트 생산·품질 테스트 기능을 강화하기 위해 최신 생산설비와 검사장비를 도입할 방침이고, 평택공장은 EUV 레지스트 및 현상액 생산·테스트 기능 강화를 위해 클린룸을 설치하고 새로운 생산설비 및 검사장비를 도입할 예정이다. (윤우성 선임기자)