반도체용 노광장치 기술개발 활발
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특허청, 한국ㆍ미국ㆍ일본 특허의 21% 차지 … 특허권 확보 필요 노광장치의 핵심기술에 대한 국내 특허출원이 활발해지고 있다.특허청에 따르면, 최근 21년간 노광장치의 핵심 요소기술 분야에 대한 한국ㆍ미국ㆍ일본 3국의 특허출원을 분석한 결과(미국은 등록특허), 상대적으로 저조했던 국내 특허출원 건수가 최근 들어 대폭 증가되고 있다. 노광장치는 광원을 이용해 원하는 부분에 미세 패턴을 형성시키는 기술인 광미세가공기술(Photolithography)작업을 수행하는 장치를 말한다.
1985-2005년 한국, 미국 및 일본에서 출원된( 미국은 등록특허) 반도체 및 디스플레이용 노광장치의 핵심 요소기술 분야(Illuminator, Reticle System, Plate Handler, Edge Exposure)에 대한 특허를 분석한 결과, 총 출원건수는 4804건이고, 기술별로는 Illuminator 분야가 전체의 48%(2342건)로 가장 높은 점유율을 보이고 있고 Reticle System 분야가 30% (1438건), Plate Handler 분야가 17%(803건), Edge Exposure 분야가 5%(223건)으로 나타났으며, 국가별 점유율은 한국이 21%(1012건), 미국이 36%(1717건), 일본이 43%(2077건)인 것으로 나타나고 있다. 일본의 특허출원 건수가 한국이나 미국에 비해 많았는데, 특히 Illuminator분야에서 확연히 드러나고 있다. 일본에서는 세계 노광장치 시장 점유율 1위인 Nikon을 비롯해 Canon 등의 노광장치기업들의 특허가 계속 출원되고 있기 때문으로 판단된다. 그러나 2001-05년 출원 점유율은 한국이 475건으로 31.8%, 미국이 549건으로 36.8%, 일본이 468건으로 31.4%에 달해 1985-20’00년 출원 점유율 한국 16.2%(537건), 미국 35.2%(1168건), 일본 48.6%(1609건)과 비교해 볼 때 상대적으로 저조했던 국내 특허출원 건수가 최근 들어 대폭 증가되고 있음을 알 수 있다. 국내기업은 삼성전자와 하이닉스 반도체 등이 특허활동을 보이고 있으나 주로 국내에서의 특허활동에 치우치고 있으며, 삼성전자는 해외출원 비율이 8.4%로 국내출원비율 91.6%에 비해 매우 낮은 편으로 외국기업들의 높은 기술장벽을 뛰어 넘기 위해서는 국가차원의 적극적인 투자 및 연구개발과 해외출원 활동을 통한 특허권 확보가 필요한 것으로 판단된다. 표, 그래프: | 노광장치 기술 관련 특허 출원 점유율 추이 | <화학저널 2006/05/18> |
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