반도체 공정기술 특허출원 “급증”
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특허청, 2005년 3719건 출원 23% 증가 … 국내 기술개발 활발 최근 반도체공정기술 분야의 특허 출원이 급증하고 있다.특허청에 따르면, 최근 3년간 반도체공정 기술분야에 대한 특허 출원이 지속적으로 증가하고 있으며, 특히 2004년 6.6% 증가에 그쳤던 출원건수가 2005년 내외국인 출원 각각 2자리대 증가로 전년대비 무려 22.9% 급증한 것으로 분석됐다.
에칭분야는 외국인 출원의 증가율이 주춤한 것에 비해 내국인 출원은 2004년 29.5%, 2005년 23.6%로 2년 연속 가파른 증가세를 보여 플라즈마 에칭기술 등 에칭 관련 국내기업의 기술 개발이 활발해지고 있음을 입증했다. 반면, 세정ㆍCMP 및 확산ㆍ이온주입분야는 타 공정분야에 비해 상대적으로 증가율이 저조한 것으로 나타났다. 표, 그래프: | 반도체공정 관련기술 특허 출원동향 | <화학저널 2006/06/08> |
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