플라즈마 활용 세라믹 코팅재 개발
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KIST 석현광 박사팀, 나노구조 코팅막 형성 … 반도체장비 국산화 기여 고온에서 플라즈마를 이용한 세라믹 코팅기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다.한국과학기술연구원 석현광 박사 연구팀은 과학기술부의 21세기 프론티어 나노소재 기술개발 사업단(단장 서상희)의 지원으로 반도체 제조용 핵심 장비에 적용할 수 있는 새로운 나노구조 신소재 세라믹 코팅재를 개발했다.
개발된 신소재는 각종 부식성 가스 분위기에서도 기존 세라믹 코팅에 비해 수명이 대폭 향상된 것으로 알려졌다. 연구팀에 따르면 “개발된 나노구조 코팅재는 현재 반도체 제조장비에 널리 사용되고 있는 이트리아 세라믹 코팅재와 동등한 수준의 플라즈마에 대한 저항성을 가지면서도 경도는 2배, 긁힘 저항성은 10배 향상되고 염소계 화학물질에 대한 반응성은 1/5이하로 감소했다”며 “균열과 같은 결함이 기존 코팅재에 비해 크게 감소했다”고 밝혔다. 연구 성과로 국내 특허 3건이 출원됐으며, 현재 미국, 일본 등에 국제특허 출원을 진행하고 있다. 또 6편의 논문이 소재분야 저명 학술지인 Journal of Materials Research(2005)를 비롯한 국내외 유명 학술지에 게재됐다. 개발된 나노구조 코팅재를 반도체 제조용 핵심장비에 적용하게 되면 반도체 제조공정의 생산성 향상이 가능할 뿐만 아니라 반도체 핵심 장비 및 부품의 국산화에도 기여할 것으로 기대된다. 이에 따라 현재 약 300억-400억원 정도인 반도체 장비 코팅 시장규모도 향후 1000억원 이상으로 증가할 것으로 예상된다. 한편, 연구개발에 참여하고 있는 윈엔윈테크놀로지는 2006년 하반기 상용화를 목표로 생산설비 투자를 추진하고 있다. <화학저널 2006/06/23> |
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