PS-PMMA 무반사 코팅재료 개발
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포스텍 김진곤 교수팀, 3차원 나노기공구조 이용 … 빛 반사 차단 LCD나 Display 표면ㆍ광학재료에 널리 쓰이고 있는 무반사코팅(Anti Reflective Coating) 재료를 만드는 획기적인 기술이 포항공과대학교(포스텍) 연구진에 의해 개발됐다.
김진곤 교수 연구팀의 연구내용은 미국에서 발행되는 표면과학분야 학술지인 Langmuir 8월12일 온라인 판에 발표됐으며, Nature Nanotechnology 최신호에 매주 나노 관련 발표논문 가운데 주요 논문 4편만 소개하는 Research Highlights로 선정됐다. 무반사 코팅에 사용되는 재료는 무기물과 유기물로 이루어져 있는데, 굴절률 때문에 무반사가 가능토록 하기 위해서는 물질에 많은 양의 기공을 만들어야 하며, 공정이 매우 복잡했다. 김진곤 교수 연구팀은 PS-PMMA 블록공중합체 용액을 대상 기판 표면에서 스핀 코팅을 한 후, PMMA 성분을 자외선으로 처리ㆍ제거해 스폰지 형태의 3차원 구조 뼈대 사이로 수십 나노미터 크기의 기공을 만들어 가시광선에서 근적외선 영역까지의 빛의 반사를 완벽하게 차단하는데 성공했다. Nature Nanotechnology는 연구내용을 소개하며 “개발된 나노구조는 기존 코팅 방법보다 훨씬 손쉽게 넓은 면적에서도 완벽히 제어할 수 있어 무반사 코팅 기술 개발에 일대 전환점이 될 것”으로 평가했다. <화학저널 2006/08/29> |
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