화학뉴스

삼성전자가 네덜란드 반도체 리소그래피 장비기업인 ASML에 총 7억7900만유로를 투자한다.
삼성전자는 5억300만유로를 투자해 ASML의 지분 3.0%를 인수하고, 5년 동안 2억7600만유로를 ASML의 차세대 리소그래피(Lithography) 기술 연구개발(R&D)에 투자하기로 했다고 8월27일 공시했다.
ASML은 반도체 미세회로 패턴 형성에 필요한 EUV(Extreme Ultraviolet) 리소그래피 기술을 보유한 곳이며, EUV 리소그래피는 반도체의 원판인 웨이퍼에 설계된 회로를 입히는 기술이다.
ASML은 7월 초 인텔, TSMC, 삼성전자 등 3사에 공동투자를 제안해 인텔은 41억달러, TSMC는 14억달러의 투자계약을 체결한 바 있다.
삼성전자는 ASML에 대한 투자가 차세대 EUV 리소그래피 기술개발 시기를 앞당겨 반도체산업 발전에 도움이 될 것으로 기대하고 있다.