스미토모케미칼(Sumitomo Chemical)이 EUV(극자외선) 레지스트 사업을 강화하고 있다.
스미토모케미칼은 최첨단 반도체 프로세스인 EUV 포토레지스트 분야의 후발주자로 그동안 시험제작과 평가용 수주만 받아왔으나 최근 들어 양산 프로세스 확립 가능성이 높아지고 있다.
로직용 시그널 나노미터 프로세스 개발 및 실용화가 본격화된 가운데 회로 형성 등 리소그래피 공정에서 EUV를 채용하는 곳이 늘어나고 있기 때문이다.
최근 메이저 반도체 파운드리(위탁생산기업)로부터 수주를 확보함에 따라 9월부터 오사카(Osaka) 공장에서 생산을 시작했으며 앞으로 2-3년 후 1000억원 이상으로 급성장할 것으로 예상되는 글로벌 시장을 선점하기 위해 포토레지스트 품질관리체제를 확충하는 작업도 진행하고 있다.
글로벌 시장점유율 1위를 장악하고 있는 불화아르곤(ArF) 액침용 레지스트와 함께 EUV 시장에서도 영향력을 확대해나갈 계획이다.
포토레지스트 품질관리체제 확충을 위해서는 2022회계연도(2022년 4월-2023년 3월) 완공을 목표로 오사카 공장에 신규 생산동을 건설하고 있다. 
검사장치, 클린룸 등 설비를 갱신하고 날로 강화되고 있는 품질관리 수준을 충족시키는데 총력을 기울일 예정이다.
EUV 노광기는 고가여서 도입하는 것이 어렵기 때문에 실제기기로 평가하는 작업을 대체할 수 있는 보증체제가 요구되고 있다.
앞으로 양산을 통해 대량 공급하는 상황에 맞추어 품질 관리체제를 확립하고 신규 생산동에서의 검사도 신속화함으로써 충분한 데이터를 제공할 수 있도록 할 방침이다.
최근 반도체 기기 시장규모가 확대되면서 패턴 형성에 필수적인 포토레지스트 수요도 함께 증가하고 있다.
아주 미세한 패턴을 그리기 위해서는 EUV 비중을 늘려야 하기 때문에 EUV 시장 성장이 기대되고 있으며 ArF 액침 등 기존 레지스트도 패턴 폭에 따라 활용 범위가 넓어질 수 있기 때문에 모든 사업에서 안정적인 성장을 기대하고 투자하고 있다.
신제품 개발을 적극화하면서 MI(Materials Informatics)도 활용하고 있다.
최첨단 레지스트는 원자 수십개 단위에서 균일성을 확보해야 하기 때문에 기초화학과 관련된 노하우 등 종합화학기업만의 강점을 발휘할 수 있을 것으로 기대하고 있다.
또 기기를 더는 미세화할 수 없을 때에는 구조가 복잡해질 수밖에 없기 때문에 g선, i선까지 포함해 최첨단 EUV 패키지를 구성하고 포토레지스트 사업을 확대하는데에도 박차를 가할 예정이다. (K)