미츠비시케미칼(MCH: Mitsubishi Chemical)이 반도체 소재 사업에서 BCP(사업계속계획) 대응을 본격화하고 있다.
미츠비시케미칼은 첨단 포토마스크용 대전방지제를 요코하마(Yokohama)의 쓰루미(Tsurumi) 공장과 아오모리(Aomori)의 하치노헤(Hachinohe) 공장에서 생산하는 체제를 구축했으며 ArF(불화아르곤)용 레지스트 폴리머도 2개 공장 체제로 전환하고 있다.
기타큐슈(Kitakyushu)의 후쿠오카(Fukuoka) 사업장에서 생산할 가능성이 가장 높으며 이르면 연말 이전에 결정할 것으로 판단되고 있다.
최근에는 쓰루미 공장을 디보틀넥킹하며 수요 증가에 적극 대응하고 있으며 지속적인 성장을 위해 2개 공장 체제를 강화할 계획이다.
대전방지제는 전자빔(EB) 노광으로 포토마스크에 패턴을 묘사할 때 사용하며 레지스트 표면에 발생하는 전자 축적을 막는 역할을 수행하고 있다.
대전을 방지함으로써 패턴 형성 정확도를 높일 수 있으며 미세화가 진전되고 있는 ArF나 EUV(극자외선) 프로세스용 첨단 포토마스크 분야에서 수요가 증가하고 있다.
미츠비시케미칼은 앞으로 미세화가 진전되며 대전방지제 수요가 더욱 증가할 것이라는 기대 아래 2021년 초부터 쓰루미 공장과 그룹사인 신료(Shiryo)의 하치노헤 공장에서 대전방지제를 생산할 수 있도록 2개 공장 체제를 정비해왔다.
ArF용 레지스트 폴리머는 ArF 레지스트 원료 생산기업에게 공급하고 있다.
최근 반도체 미세화를 타고 ArF, EUV 양 레지스트 시장이 성장하고 있고, 특히 시장규모가 큰 ArF 레지스트는 수급이 타이트해 JSR이나 스미토모케미칼(Sumitomo Chemical) 등 레지스트 생산기업들이 증설에 나서고 있다.
미츠비시케미칼도 수요 증가에 따라 기존 쓰루미 공장을 디보틀넥킹하고 있으며 앞으로 2-3년 동안의 수요 증가분에 대응할 수 있을 것으로 판단하고 있다.
최근에는 BCP 추진을 위해 새로운 생산라인 확보에도 나서고 있다.
일본이 포토레지스트 생산을 주도함에 따라 해외투자 대신 일본에서 2개 공장 체제를 마련할 계획이며 후쿠오카와 쓰루미가 반도체 소재 마더공장이기 때문에 후쿠오카에 신규라인을 건설할 것으로 예상되고 있다.
조기에 투자 판단을 내리고 2-3년 후 상업 가동하는 것을 목표로 하고 있다.
미츠비시케미칼은 2020년 4월 반도체 본부를 신설하고 반도체와 관련된 모든 생산제품의 브랜드를 MCSS로 통합해 공급하고 있다.
앞으로는 MCSS 브랜드를 중심으로 반도체 시장 개척을 가속화하고 폴리머 기술을 강점으로 내세우면서 2030년경 반도체 본부 매출액을 1000억엔대로 확대할 방침이다. (K)